Nayif, Ma’an M; Otsuki, Masayuki; Tagami, Junji

doi:10.1590/0103-6440202104046

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Sumário

Article • Braz. Dent. J. 32 (5) • Sep-Oct 2021 • https://doi.org/10.1590/0103-6440202104046 copiar

Bonding performance of self-etch adhesives to enamel bleached with different peroxide concentrations

Autoria SCIMAGO INSTITUTIONS RANKINGS

Resumo

O objetivo deste estudo foi avaliar a resistência ao cisalhamento (µSBS) de sistemas auto-adesivos de um e dois passos após clareamento do esmalte com sistemas de clareamento foto-ativados de diferentes concentrações de peróxido de hidrogênio (HP). O esmalte oclusal de quarenta molares humanos intactos foi aplainado e atribuído em quatro grupos. GI Unbleached, GII, GIII, e GIV foram branqueados com Pyrenees (3,5% HP), GC TiON (20% HP), e Hi-Lite (35% HP) respectivamente. Tratamento de esmalte com adesivos de um e dois passos auto-adesivos (Clearfil S3 Bond- S3, e Clearfil SE Bond-SE), depois os microtubos foram fixados no esmalte e preenchidos com composto AP-X (n=5). A resistência ao cisalhamento foi testada com a máquina universal de testes. Os dados foram analisados usando os testes de ANOVA e Tukey de duas vias a um nível de 5% de significância. O µSBS foi significativamente diferente entre adesivos (F=154,46; p<0,05) e sistemas de clareadores (F=77,33; p<0,05) com interação significativa. Os espécimes colados com S3 mostram um μSBS significativamente inferior aos colados com SE (p<0,05) em todos os grupos. Para ambos os adesivos, os grupos clareados demonstram µSBS inferiores aos não clareados exceto os espécimes clareados com Pyrenees e colados com SE (p>0,05). Foi observada uma diferença significativa entre os grupos dos sistemas de clareamento (p<0,05). Diferentes concentrações de peróxidos foto-ativados nos sistemas de clareamento afetam negativamente μSBS dos adesivos de uma e duas etapas de auto-colagem. O sistema de baixa concentração (Pyrenees) não influenciou a resistência ao cisalhamento do adesivo de duas etapas.

Agent	Main Component	H₂O₂% (pH)	Application
Pyrenees		3.5% (6.0)	Solution 1 & 2 were mixed for 1 min, Applied in 2mm thick, irradiated for 5 min total, washed and dried. Procedure repeated three times.
Solution 1	H₂O₂ <6%, stabilizer pH adjuster < 6%; Pure water
Solution 2	TiO₂ <1%; stabilizer <5%; pure water, other
GC TiON		20% (neutral)	Reactor applied and air blown. Syringes A&B were mixed, Applied, irradiated for 1 min, left for 5 min, washed and dried. Procedure repeated three times.
Reactor	Ethanol, TiO₂, thickener, pH conditioner, water
Syringe A	35% H₂O₂
Syringe B	30% carbamide peroxide, glycol solvente, thickener, Ph conditioner
Hi-Lite		35% ⁴4. Cavalli V, Giannini M, Carvalho RM. Effect of carbamide peroxide bleaching agents on tensile strength of human enamel. Dent Mater 2004; 20: 733-739.	Powder and liquid mixed, small a applied for 5min and irradiation for 3min. Mixture was kept for another 2min then removed, washed and dried. The procedure was repeated for three times.
Powder	Potassium persulphinate, manganese sulfate, monohydrate, hydrated amorphous sílica, mixed sodium and calcium salt
Liquid	35% H₂O₂, water

Material	Composition
Clearfil S3 bond (One-step)	MDP, HEMA, bis-GMA, dl-Camphorquinone, water, ethanol, silanated colloidal silica.
Clearfil SE bond (two-step)	Primer: MDP, HEMA, dimethacrylate hydrophilic, Camphorquinone, N, N-diethanol-p-toludine, water.
Clearfil SE bond (two-step)	Adhesive: MDP, bis-GMA, HEMA, dimethacrylate hydrophobic, Camphorquinone, N,N-diethanol-p-toludine, silanated colloidal silica.
Clearfil AP-X	Barium glass, Silica, Colloidal silica, Silicon dioxide, (71vol.%, 0.1-15 µm), Bis-GMA, TEGDMA, photoinitiator

Adhesive	Unbleached	Pyrenees	GC TiON	Hi-Lite
Clearfil SE	38.0(5.6) ^A,a	37.3(4.3)^A,a	28.2(5.1) ^B,a	22.9(4.6) ^C,a
Clearfil S³	33.2(3.3) ^A,b	18.3(4.4) ^B,C,b	20.7(6.6) ^B,b	15.6(4.3) ^C,b

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[1] Correspondence: Ma’an M. Nayif, (Assistant professor). Tel.: +964-07710447575 E-mail: mmnayif@yahoo.com