Figura 1
Fotografias do isolador cerâmico utilizado comosubstrato: a) vista lateral, b) vista superior, c) vista inferior. [Figure 1: Photography of the ceramic insulator used as a substrate: a) side view, b) top view, c) bottom view.]
Figura 2
Fotografia dos corpos de prova de porcelana extraídos por corte com disco diamantado de isoladores tipo roldana. [Figure 2: Photography of porcelain specimens extracted by cutting with diamond disc from insulators type pulley.]
Figura 3
A) Desenho esquemático ilustrando as partes constituintes do reator de plasma PMS, sendo: a) reator; b) magnetron; c) bomba difusora; d) bomba mecânica; e, f) adsorvedores de óleo; g, h) válvulas de controle de vácuo; i) fonte de tensão pulsada; j) potenciômetro da corrente elétrica; k, l) conjunto de cilíndros e manômetros de gases; m, n) conexões do aterramento elétrico do sistema; B) foto do reator PMS, sendo: a) câmara de reação; b) sistema de vácuo; c) fonte de alta tensão; e d) sistema de controle de refrigeração do magnetron. [Figure 3: A) Schematic drawing illustrating the constituent parts of PMS plasma reactor, as follows: a) reactor; b) magnetron; c) diffusion pump; d) mechanical pump; e, f) oil sorbents; g, h) vacuum control valves; i) pulsed voltage source; j) electric current potentiometer; k, l) set of cylinders and gas pressure gauges; m, n) systen electrical ground connections; B) PMS reactor photograph, as follows: a) reaction chamber; b) vacuum system; c) high-voltage source; d) magnetron cooling system control.]
Figura 4
Equipamento goniométrico desenvolvido para a obtenção e armazenamento de uma imagem do ângulo de contato de uma gota de água com o substrato e a indicação de suas principais partes2121 M. M. Ma zur, Diss. Mestrado, Universidade Estadual de Ponta Grossa, Paraná (2014) 88.. [Figure 4: Goniometric equipment developed for obtaining and storing an image of the contact angle of a water droplet on the substrate with the indication of main components2121 M. M. Ma zur, Diss. Mestrado, Universidade Estadual de Ponta Grossa, Paraná (2014) 88..]
Figura 5
Fotos ilustrativas das redes energizadas para testes de agressividade ambiental sobre materiais da RDE, sendo: a) estação de Pituba, centro de Salvador, BA; b) detalhe de um isolador cerâmico com depósito de filme fino instalado; c) estação de Sauípe, BA; e d) detalhe de dois isoladores cerâmicos com e sem depósito de filme fino instalados2424 K.F. Portella, M.O.G.P. Portella, S. Ribeiro Jr., J.S. S. Melo, D.P. Cerqueira, S.A. Pianaro, M. M. Ma zur, In 20º Relatório Técnico de Pesquisa LACTEC/COELBA/ANEEL, P&D 0047-0047/2011, Curitiba (2014).. [Figure 5: Illustrative photos of energized networks for environmental aggressiveness tests on the RDE materials: a) Pituba station, center of Salvador, BA; b) detail of a installed ceramic insulator with thin film deposition; c) Sauípe station, BA; d) detail of two ceramic insulators with and without deposit of thin film2424 K.F. Portella, M.O.G.P. Portella, S. Ribeiro Jr., J.S. S. Melo, D.P. Cerqueira, S.A. Pianaro, M. M. Ma zur, In 20º Relatório Técnico de Pesquisa LACTEC/COELBA/ANEEL, P&D 0047-0047/2011, Curitiba (2014)..]
Figura 6
Diagrama simplificado da medição de corrente de fuga de isoladores cerâmicos de porcelana, tipo pino, e registro de dados ocorridos nas estações de Pituba e de Sauípe, de forma on-line e in-situ2424 K.F. Portella, M.O.G.P. Portella, S. Ribeiro Jr., J.S. S. Melo, D.P. Cerqueira, S.A. Pianaro, M. M. Ma zur, In 20º Relatório Técnico de Pesquisa LACTEC/COELBA/ANEEL, P&D 0047-0047/2011, Curitiba (2014).. [Figure 6: Simplified diagram of leakage current measurement of ceramic porcelain insulators, pin type, and data logging in the Pituba and Sauípe stations online and in-situ2424 K.F. Portella, M.O.G.P. Portella, S. Ribeiro Jr., J.S. S. Melo, D.P. Cerqueira, S.A. Pianaro, M. M. Ma zur, In 20º Relatório Técnico de Pesquisa LACTEC/COELBA/ANEEL, P&D 0047-0047/2011, Curitiba (2014)..]
Figura 7
Imagens de MEV do filme 1i (de espessura ao redor de 2 μm) depositado sobre uma amostra de substrato de porcelana com cobertura vítrea retirada de um isolador tipo roldana, a partir de um alvo de Al. [Figure 7: SEM images of film 1i (thickness around 2 μm) deposited on a glazed porcelain substrate sample taken from a pulley type insulator, using an Al target.]
Figura 8
Imagens de AFM 3D (a) e 2D (b) de um filme fino depositado por 60 s sobre uma amostra de substrato de porcelana com cobertura vítrea retirada de um isolador tipo roldana, a partir de um alvo de Al. [Figure 8: AFM images 3D (a) and 2D (b) of a thin film deposited for 60 s using an Al target on a glazed porcelain substrate sample taken from a pulley type insulator.]
Figura 9
Imagens das gotas de água sob os substratos não tratado (a) e tratados: 1i, 2i, 1ia, 2ib, 3ic, 4id, 5ie e 6if. As gotas possuíram volume de 20 μL. [Figure 9: Images of the water drop on the not treated (a) and on the treated (b) substrates: 1i, 2i, 1ia, 2ib, 3ic, 4id, 5ie and 6if. The drop volume was 20 μL.]
Figura 10
Imagens ilustrativas da classificação da hidrofobicidade para isoladores, segundo a norma ABNT IEC/TS 620732222 Associação Brasileira de Normas Técnicas, IEC/TS 62073, Guia de medição da hidrofobicidade nas superfícies de isoladores, Rio de Janeiro (2010).. [Figure 10: Illustrative images of the hydrophobicity rating for insulators, according to ABNT IEC/TS 620732222 Associação Brasileira de Normas Técnicas, IEC/TS 62073, Guia de medição da hidrofobicidade nas superfícies de isoladores, Rio de Janeiro (2010)..]
Figura 11
Imagens de AFM das superfícies das amostras de isoladores de porcelana tipo pino, sendo: (a) amostra sem deposição, (b) amostra com 30 s de deposição e (c) amostra com 120 s de deposição. [Figure 11: AFM images of surfaces of pin type porcelain insulator samples: (a) sample without deposition, (b) sample after 30 s of deposition and (c) sample after 120 s of deposition.].
Figura 12
Imagem mostrando hidrofobicidade (CM3) no isolador cerâmico tipo pino "saia baiana" com deposição de Ti, nas condições de vácuo de 5,5 x 10-3 Pa e pressão de trabalho para a inserção do gás Ar de 0,82 Pa, com tempo de deposição da camada de filme fino de 20 s após a ativação da energia do reator. [Figure 12: Image showing the hydrophobicity (CM3) in the ceramic insulator, pin type "saia baiana", with deposition of Ti in conditions of vacuum at 5.5 x 10-3 Pa, pressure for insertion of Ar gas of 0.82 Pa, and deposition time of thin film layer of 20 s after energy activation of the reactor.]
Figura 13
Resultados da máxima corrente de fuga RMS, durante 580 s, de (a) isolador 1 sem cobertura com filme fino e (b) isolador 2 com cobertura, ambos medidos na forma seca e úmida.
Figura 14
Corrente de fuga versus tempo de exposição ao meio ambiente de isoladores de porcelana tipo saia baiana sem e com filme fino, instalados na estação de Pituba, classe 15 kV. [Figure 14: Leakage current versus exposure time in natural environment of porcelain insulators, "saia baiana" type, with and without titanium coating, installed in Pituba station, 15 kV class.]
Tabela I
Principais componentes do reator de plasma fabricado para a formação de filmes nanométricos sobre a parte vidrada dos isoladores cerâmicos, para classes de tensão de até 15 kV. [Table I - Major components of fabricated plasma reactor for the formation of nanometric thin films over the portion of glazed ceramic insulators for voltage classes of up to 15 kV.]
Tabela II
Parâmetros de operação do reator PMS para a deposição de filmes de AlN, em amostras de isoladores cerâmicos. [Table II - PMS reactor operating parameters for the deposition of AlN films on ceramic insulator samples.]
Tabela III
Resultados da análise química semiquantitativa, por XRF, do isolador nas regiões consideradas como porcelana e vidrado. [Table III - Results of semi-quantitative chemical analysis by XRF of insulator in the regions considered as porcelain and glaze.]
Tabela IV
Resultados das aferições dos ângulos de contato estático dos seis substratos de isolador elétrico tratados com AlN.
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